產(chǎn)品名稱：二手 日立 SU-5000 熱場發(fā)射電鏡
產(chǎn)品型號：
更新時間：2025-06-11
產(chǎn)品特點：二手 日立 SU-5000 熱場發(fā)射電鏡允許在高真空和可變壓力模式之間進行簡單的切換。樣品室可容納大型樣品（-200mmφ，-80mmH）。使用無場光學元件和可變壓力輕松對任何類型的樣品進行成像，最多可同時提供4個信號，3D MultiFinder工具，使樣品可以輕松傾斜和旋轉，影像依然保持居中和聚焦。
產(chǎn)品詳細資料：
二手 日立 SU-5000 熱場發(fā)射電鏡技術參數(shù)：
分辨率：1.2nm30kV（SE）；3.0nm@1kV（SE）；2.0nm01kV(SE)減速模式（選配1）；3.0nm@15kV（BSE）低真空模式（選配2）
放大倍率：10～600，000×（底片倍率），18～1，000，000×（800×600像素）/30～1，500.000×（1.280×960像素）
電子光學系統(tǒng)
電子槍：Zro/w肖特基式電子槍
加速電壓：0.5~30kV(0.1kV步進)
著陸電壓：減速模式：0.1～2.0kV（*選配1）
束流：>200nA
探測器：低位二次電子探測器
低真空模式（選配2)：真空范圍：10～300Pa
馬達臺：馬達臺控制：5軸自動（優(yōu)中心）
可動范圍：Z：0～100mm；Y：0~50mm；Z：3～65mm；T：-20～90°；R：360°
最大樣品尺寸：最大直徑：200mm；最大高度：80mm
顯示器：23寸LCD（1，920×1，080像素）
顯示模式：標準顯示：1，280×960像素；縮小顯示：800×600像素；雙屏顯示：640×480像素；四屏顯示：640×480像素
圖像數(shù)據(jù)：保存像素640×480.1,280×960,2,560×1,920,5,120×3,840
主機：740(W)x1,000(D)x1,650(H)mm550kg
操作臺：1,100(W)×1,120(D)×730(H)mm290kg
機械泵（選配3）：526(W)x225(D)x306(H)mm28kg
空壓機（選配3）：400（W）x230（D）x520（H）mm18kg
防震重塊：200(W)x180(D)×160(H)mm40kg
選配探測器：高分辨率頂位二次電子探測各（選配1）、高靈敏度低真空探測器（UVD）、5分割半導體探測器（PD—BSD（選配2）、能譜儀（EDS）、波譜儀（WDS）、背散射電子衍射探測器（EBSD）
二手 日立 SU-5000 熱場發(fā)射電鏡使用方法：
設備檢查：檢查電鏡的電源、真空系統(tǒng)和冷卻系統(tǒng)，確保設備正常工作。
樣品準備：根據(jù)樣品類型進行適當?shù)奶幚恚ㄈ珏兘?、涂層），確保樣品適合觀察。
樣品安裝：將樣品固定在樣品臺上，確保樣品表面平整且與電子束垂直。
設置參數(shù)：在控制軟件中設置加速電壓、束流和掃描模式，選擇合適的探測器。
啟動設備：打開電源，啟動真空泵，等待系統(tǒng)達到所需的真空度。
觀察與成像：調整焦距、增益和掃描速度，觀察樣品并獲取圖像。
數(shù)據(jù)記錄：保存圖像和數(shù)據(jù)，記錄觀察到的特征和參數(shù)。
樣品清理：結束觀察后，清除樣品臺，準備下一個樣品。
定期維護：定期檢查和維護設備，確保長期穩(wěn)定運行。
日立SU5000熱場式場發(fā)射掃描電鏡有哪些實驗室在用：
華中科技大學材料科學與工程學院特征分析中心：應用于優(yōu)良陶瓷和金屬基復合材料的微觀表征
南京大學材料科學與工程系微觀分析實驗室：用于電磁功能材料、智能材料的微觀結構表征
中南大學材料科學與工程學院分析測試中心：應用于能源材料、生物醫(yī)用材料的微結構分析
中國科學院物理研究所材料分析中心：主要用于優(yōu)良功能材料的微結構表征分析
北京大學材料科學與工程學院電子顯微實驗室：應用于新型納米材料和薄膜材料的表面形貌觀察
日立 SU5000熱場式場發(fā)射掃描電鏡售后服務支持：
主機標配一定期限整機質保，保修期內免費提供維修和備件更換，對于關鍵部件如電子槍提供延長質保選擇。
Hitachi派遣經(jīng)過專業(yè)培訓的工程師上門，提供設備安裝調試、定期檢查維護等服務。
設有7x24小時的技術支持熱線和在線服務，工程師可通過遠程連接進行設備診斷。
提供SU5000系列全套正品配件和耗材，確保用戶能及時購買到所需的維修零件。
定期組織SU5000掃描電鏡的操作培訓課程，內容包括儀器使用、圖像采集、數(shù)據(jù)處理等。
根據(jù)客戶需求提供硬件和軟件升級改造方案，幫助用戶提升設備性能,滿足新的研究需求。
另外"SU5000"的尋找視野功能"3D MultiFinder"更是不但可大幅提高做樣速度，更使視野再現(xiàn)性得到大大提高。并且，為了能適應各種分析的需求，束流可達到200nA。再加上設計的背散射電子探頭和低真空二次電子探頭等，都使該款電鏡無論在是觀察樣品還是分析都具備了的功能與*的擴展性。
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